Ø 有兴趣进军韩国市场?
Ø 关注进入韩国市场所需的知识产权相关法规要求?
Ø 想了解中日韩三地知识产权的发展以及合作现况?
Ø 想与三地知识产权行业专家面对面交流?
参与2017大田国际IP研讨会，您必能从中获益良多。
根据世界知识产权组织(WIPO)发布的《2016世界知识产权指标》报告显示，2015年世界各地的创新者共提交了约290万件专利申请。当中，中国提交的专利申请最多，首次在单一年度内提交了超过100万件申请，申请量连续5年位居世界第一。中国的创新发明者、高新企业家在全球知识产权领域内肩负着日益重大的使命，也对其发展动态展现出更深切的关注。若您也是这其中的一员，那绝不容错过2017大田国际IP论坛。
2017大田国际IP论坛，将于2月17日在韩国大田广域市隆重举行。届时包括韩国专利厅评审制度科的科长，大田广域市市长及议员代表，中日韩三方的知识产权行业专家、相关领域的学术教授、以及众多中日韩的知识产权从业者等将齐聚一堂。活动旨在为中日韩三国的知识产权发展构建促进各方高效沟通的对话机制，鼓励各地域的知识产权专家以及从业者相互交流与协作，实现大田国际IP论坛的平台链接价值。
活动名称：2017大田国际IP研讨会
2017 Daejeon International IP Conference
活动期间：2017年 2月 16日(周四) ~ 17日(周五)
活动地点： 大田会议中心 (DCC)
活动主题： 中日韩知识产权领域的沟通与协作
参与人数：150余名来自中日韩三国的知识产权专家、学者，大田广域市政府 官员
交通安排：2月16日下午2点 - 大会安排机场大巴接送至晚宴酒店
餐饮安排：2月16日 - 欢迎晚宴
2月17日 - 会场提供自助午餐
有兴趣参加的各位，烦请填写如下资料以后，发送至上面的邮箱。
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是否需要2月16日的机场大巴接送服务?
